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在线近红外半导体应用

简要描述:应用 - 半导体生产
半导体应用 - 酸浴、湿法蚀刻等

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-01-10
  • 访  问  量:627

详细介绍

我们的近红外分析仪可监测半导体、IC、PCB 和太阳能电池制造中酸浴、湿法蚀刻、清洁和回收的溶液强度和水分,苛性酸、苛性碱和清洁溶液是半导体制造、工业清洁和各种其他应用的重要组成部分。需要监测其浓度,以确保有效使用和再利用。在线或在实验室中准确测定这些关键化学品的浓度。在线近红外分析仪与适用于此类半导体生产中的酸和苛性碱。

半导体生产中的酸和苛性碱

仪器可在恶劣的环境中测量,组件由专为湿化学工艺设计的材料制成,本质安全且坚固耐用。在线或在实验室进行测量将实现最佳的检测性能。即使在高浓度和高温的环境下也能测量各种酸和苛性碱。

测量酸、碱、清洁、洗涤和其他溶液:


H2SO4(硫酸)

Na2CO3(碳酸钠)

HF(氢氟酸)

NH4OH(氢氧化铵)

盐酸(盐酸)

SC-1

HNO3(硝酸)

SC-2

CH3COOH (醋酸)

H2O2(过氧化氢)

氢氧化钠(氢氧化钠)

TMAH(四甲基氢氧化铵)






  • 测量溶液和最终产品中的水分

  • 监控解决方案,确保性能

  • 确保最佳产品质量并降低运营费用

用于实时过程监控的在线分析

在线监测半导体制造和溶液回收中的浓度可以节省成本,最大限度地控制成本,实时监测和控制关键质量参数。在线监测主要成分的浓度,可确保最佳性能并减少工艺变化。

  • 同时测量多达 20 个酸

  • 通过 Modbus、4-20ma 等技术将您的分析仪直接集成到您的控制系统中

  • 实时监控工艺流体,及时了解加工条件

  • 让您的工厂在您设定的范围内运行并保持

  • 在线测量的探头可用于恶劣环境中 






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