在线近红外半导体应用

简要描述：应用 - 半导体生产
半导体应用 - 酸浴、湿法蚀刻等

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详细介绍

我们的近红外分析仪可监测半导体、IC、PCB 和太阳能电池制造中酸浴、湿法蚀刻、清洁和回收的溶液强度和水分

苛刻的酸、苛性碱和清洁溶液是半导体制造、工业清洁和各种其他应用的重要组成部分。需要监测其浓度，以确保有效使用和再利用。在线或在实验室中准确测定这些关键化学品的浓度。在线近红外分析仪与适用于此类困难的酸测量的探头兼容。

使用我们的NIR专用硬件在恶劣的环境中测量产品。组件由专为湿化学工艺设计的材料制成，本质安全且坚固耐用。在线或在实验室进行测量将实现最佳的过程性能。即使在高浓度和高温下也能测量各种酸和苛性碱。

测量酸、碱、清洁、洗涤和其他溶液：

H2SO4（硫酸）

Na2CO3（碳酸钠）

HF（氢氟酸）

NH4OH（氢氧化铵）

盐酸（盐酸）

SC-1

HNO3（硝酸）

SC-2

CH3COOH （醋酸）

H2O2（过氧化氢）

氢氧化钠（氢氧化钠）

TMAH（四甲基氢氧化铵）

在线监测半导体制造和溶液回收中的浓度可以节省大量成本。最大限度地利用您的解决方案，实时监测和控制关键质量参数。在线监测关键成分的浓度可确保最佳性能并减少工艺变化。

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